芯片制造后残留的光刻胶不能湿法清洗，电池极片plasma清洗设备只能用等离子去除。此外，由于无法确定光刻胶的厚度，因此需要在多次实验中调整相应的工艺参数，才能达到良好的处理效果。如果您对等离子清洗机感兴趣或想了解更多，请点击在线客服等待您的来电。。等离子清洗机的工艺流程概述和优势：其中，动力电池组的
