以及富含聚合物的蚀刻工艺倾向于减小工艺窗口以保证接触孔的良好开度，电晕处理的优点与缺点控制接触孔的侧壁形状以高宽比和良好的尺寸均匀性，这些都是工艺集成对蚀刻工艺提出的要求，以实现更严苛的电特性。此外，光刻需要更薄、更少未显影的光刻胶用于图案曝光，这就增加了接触孔蚀刻工艺对光刻胶的选择性，以防止接触孔
