与双衬底结构相比，电晕处理机的处理结构单衬底下各位置的基团强度非常接近，结果表明双衬底平台结构具有聚光电晕的功能，可以使各基团靠近衬底平台，在衬底平台范围内均匀性较好，在衬底平台范围外均匀性较差，而单衬底平台聚光电晕的功能较弱，电晕更加发散。电晕表面清洗可以去除污垢层、不需要的聚合物涂层和一些加工聚
