4.低温电晕的表面沉积功能电晕化学气相沉积(PCVD)是利用电晕活化反应气体，薄膜电晕处理机电路维修图促进基片表面或近表面空间发生化学反应，形成固体薄膜的技术。电晕化学气相沉积的基本原理是：源气体在高频或直流电场作用下电离形成电晕，以低温电晕为能源，引入适量的反应气体，通过电晕放电激活反应气体，实现
