电晕限制环将电晕直接聚焦在晶片上，电晕处理机大小电压咋调以加速蚀刻，提供均匀的电晕覆盖，并将电晕与晶片本身隔离，而不是与周围区域隔离。由于提高蚀刻速率的能力，不需要提高电极温度或增加卡盘的偏置。该环由绝缘非导电材料制成，铝电晕与铝之间的导电路径仅限于晶圆区域。环面胶带与框片之间有2mm的间隙。由于没
