虽然可以产生典型的大体积强激发低温等离子体，附着力促进剂硅烷但其工作压力太低，难以在工业应用中连续生产，应用成本高。目前主要用于半导体行业的清洗。射频plasma等离子体清洗机：射频放电通常在低压下操作，也可以在常压甚至加压下操作，其特点是放电气体不与电极接触。射频放电是利用高频电场将反应器中的气体
