3.影响氮化硅侧壁蚀刻角度的参数：在半导体集成电路中，煤油会影响油漆面附着力吗真空等离子刻蚀设备的刻蚀工艺不仅可以刻蚀表层的光刻胶，还可以刻蚀底层的氮。同时，要满足很多工艺要求，需要防止蚀刻对硅衬底造成损伤。通过一些测试发现，真空等离子刻蚀设备的一些参数的改变，不仅满足了上述刻蚀要求，而且形成了特定
