一般在等离子清洗中, 可把活化气体分为两类, 一类为惰性气体的等离子体 (如Ar2、N2等) ;另一类为反应性气体的等离子体 (如O2、H2等) 。这些活性粒子能与表面材料发生反应, 在这一过程中等离子体能有效地使材料表面层中产生大量自由基, 这种作用在高分子表面特别明显。在半导体领域, 反应性等离
