等离子体处理设备主要包括预真空室、刻蚀室、送风系统和真空系统四部分。等离子体处理设备的工作原理是化学过程和物理过程共同作用的结果。真空压力下,射频(RF)力量的基本原则产生的射频输出环耦合线圈,以一定比例混合蚀刻气体辉光放电的耦合,高密度等离子体、电极的射频(RF),进行等离子体轰击衬底表面,基片图
