半导体制造过程需要有(机)和无机物参与完成，河北射频等离子清洗机厂家价格另外，鉴于人工参与在净化室内完成了工艺过程，因此半导体晶圆不可避免地受到各种杂质的污物。按污染源的来源、性质等，大致可分为四类：颗粒、有(机)物、金属离子和氧化物。1)颗粒主要是聚合物、光刻胶和腐蚀杂质。这种污染源通常情况下主要
