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氧等离子体刻蚀氧化物(氧等离子体刻蚀氧化铝)

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这种电源控制器用于中频等离子设备。典型的等离子体化学清洗工艺是氧等离子体清洗。等离子体产生的氧自由基很容易与碳氢化合物发生反应,氧等离子体刻蚀氧化物产生二氧化碳、一氧化碳和水等挥发性物质,从而清除表面的污染物。液晶显示制作中的清晰度在液晶清洗干洗中,氧等离子体刻蚀氧化铝使用的活化气体是氧等离子体,它