等离子处理机的刻蚀工艺改变氮化硅层的形态原理： 等离子处理机可实现清洗、活化、蚀刻和表面涂层等功能，杭州等离子真空清洗机依据需要处理的材料不同，可达到不同的处理效果。半导体工业中使用的等离子处理机主要有等离子蚀刻、显影、去胶、封装等。在半导体集成电路中，真空等离子体清洗机的刻蚀工艺，既能刻蚀表面层的
