在信号层跃迁过程中，晶圆等离子体除胶机器需要保证返回电流能够从一个参考平面平滑地流向另一个参考平面。。电感耦合等离子体表面处理器的放电原理和特性电感耦合真空（低压）等离子体表面处理器是随着半导体工业的工艺要求而发展起来的，其主要应用是晶圆制造中的光刻胶去除和蚀刻。严格来说，等离子刻蚀已经属于另一种工
