在前沿研究领域,微波等离子宽带隙半导体仍处于实验室开发阶段。注:阿尔法等离子微波等离子清洗/脱胶设备用于相应宽禁带半导体的研发制造单位,为相关工艺提供技术支持。目前常用的等离子体激发频率有3种:激发频率为40kHz的等离子体为超声波等离子体,微波等离子激发频率为13.56MHz的等离子体为高频等离子