此外，平板显示器plasma刻蚀据报道在许多低温等离子体刻蚀工艺中，等离子体表面处理器的离子轰击是决定性因素，主要是因为降低反应温度可以有效地减缓表面化学反应。在等离子体表面处理器的低温反应中对SF6/O2进行连续等离子体刻蚀硅基板的过程称为标准超低温工艺，从而实现平行刻蚀和保护。SiOxFy无机化
