等离子体蚀刻设备的蚀刻过程改变了氮化硅层的形态原理:等离子体蚀刻设备可以实现表面清洗、表面活化、表面蚀刻和表面涂覆等功能，工业超声波清洗机根据需要处理不同的材料，可以达到不同的处理效果。等离子体刻蚀设备在半导体工业中的应用主要包括等离子体刻蚀、开发、脱胶、封装等。在半导体集成电路中，真空等离子体清洗
