..等离子清洗设备的氧化灰化工艺也可以在增加氧化量的基础上达到改善外延缺陷的目的。然而，等离子体清洗机厂家这样的工艺导致沟槽表面上的氧化硅层更厚。如前所述，去除灰化产生的氧化硅层的工艺也会破坏浅沟槽隔离的氧化硅层，影响器件的性能，所以氧化灰化工艺为硅锗工艺。。等离子清洗设备的表面处理技术有着广泛的应
