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二氧化硅plasma表面活化(二氧化硅等离子体蚀刻设备)

二氧化硅plasma表面活化(二氧化硅等离子体蚀刻设备)

其中最大的关键环节是有机化学沉铜前的PTFE活化预处理,二氧化硅等离子体蚀刻设备也是特别重要的一步。使用聚四氟乙烯聚合物在活化处理前化学沉淀铜的方法有很多,但归纳起来,才能保证产品质量并适合批量生产,主要有以下两种方法:(1)有机化学处理:金属钠与萘在非水溶液(如四氢呋喃或己醇二甲醚)中发生反应,形