将气相反应粒子、原子团、光子等引入工艺室，封装plasma去胶机对工件进行清洗，基本滤除离子和电子。 2.45GHZ下游等离子型是封装等离子清洗的主要形式，适用于清洗有机物。激发频率分类中常用的等离子体功率激发频率有3种：激发频率为40KHZ的等离子体为超声波等离子体，产生的反应为物理反应，清洗系统
