这一点非常重要，外延片等离子体表面清洗机器因为锗的多层结构一般是外延的，其间的感应层和层间结构一般都是锗合金材料，选择高比工艺可以更好地控制这类多层结构的蚀刻。我们知道CF4也是一种活性很高的化学蚀刻气体。从效果上看，CF4加氧的腐蚀选择性比更高，因为氧会更容易与较低的材料（Sn）反应形成表面保护膜
