而真空等离子清洗机会有更多的气体选，外延片等离子清洗机并可选择多种气体进行匹配，可显著提高材料表面氧化物和纳米级微生物的去除。这里需要强调的是，大气气体导入的目的主要是激活和增强侵占。真空气体引入的目的是增强蚀刻效果，去除污染物，去除有机物，增强穿透性。显然，气体的选择范围更广，真空等离子体清洗工艺
