清洗、脱脂、还原、活化、去除光刻胶、蚀刻、涂覆等都可以通过内部预先设定的程序和不同气体产生的化学活性等离子体轻松完成。利用氧等离子体通过原子力显微镜(AFM)、扫描电镜(SEM)或透射电镜(TEM)去除样品成相前表面的烃类污染物，培养皿plasma除胶机以获得更好的分辨率和真实的材料结构信息。真空等
