plasma清洗设备也可以对物体表层进行刻蚀，玻璃附着力促进树脂等离子刻蚀采用高频辉光放电反应，将反应性气体激话为原子或游离基等活性颗粒物，它们扩散到需要腐蚀的部位，与被腐蚀的物质发生反应，形成挥发性的反应物，然后将其除去。等离子清洗，在某种意义上，只是轻微的等离子腐蚀。 ①碳化硅作为第三代半导体材
