等离子清洗机在半导体行业的应用包括等离子蚀刻、开发、脱胶和包装。在半导体集成电路中，南京等离子刻蚀真空等离子清洁器蚀刻工艺不仅可以蚀刻表面层的光刻胶，还可以蚀刻下面的氮化硅层。通过调整真空等离子清洗机的一些参数，形成氮化硅层的特定形貌，即侧壁刻蚀斜面。 1 氮化硅材料的特点氮化硅 (Si3N4) 因
