等离子清洗机在处理晶圆表面的光刻胶时，半导体等离子清洗机清洗原理等离子清洗机的表面清洗可以去除表面光刻胶等有机物，有效提高表面的润湿性。与传统的湿法化学相比，等离子清洗机的干式墙处理更可控，更一致。而且板子没有损坏。晶圆清洗 用于等离子清洗的半导体等离子清洗机具有工艺简单、操作方便、环保、无环境污染
