但从对环境的影响、原材料的消耗以及未来的发展来看，半导体清洗机设备市场干洗明显优于湿洗。干洗发展迅速，优势明显。等离子体加工设备清洗已广泛应用于半导体制造、微电子封装、精密机械等行业。对于实际原子层刻蚀过程中反应A、B的每一循环，半导体清洗机设备原理理想的单层自限幅刻蚀工艺很难实现。反应A包括四种不
