用于故障分析或MEM和LED器件制造的高性能等离子刻蚀，刻蚀气体有哪些真空等离子清洗系统适用于各种工艺气体，包括:Ar, O2, H2/形成气体，He, CF4和SF6。真空等离子清洗机系统清洗加工特点及优势:(1)触摸屏控制和图形用户界面提供实时工艺数据和反馈(2)13.56MHzRF发生器和自动
