CD损耗严重；除上述问题外，亲水性纳米二氧化硅涂层等离子清洗机等离子表面处理机蚀刻后切割方法在侧壁有氮化钛或氧化硅残留物。延长蚀刻时间后，上述残留物被去除，但氮化钛顶部被严重损坏。使用各向异性蚀刻（例如使用 C4F8 / AR 进行氧化硅蚀刻或使用 CL2 / N2 进行氮化钛蚀刻的低压、高偏置功率
