光刻胶，在介质中哪些是亲水性物质也称为光刻胶，经过曝光、显影和蚀刻以在结构的每一层上形成所需的图案。光刻胶被完全去除。传统的光刻胶去除方法是使用湿法，因此最终的结果是清洗不彻底、引入杂质等。随着冷等离子清洗技术的逐渐成熟，Wafer Photo Photo 选择使用这种干洗进行加工。这样的等离子清洗
