晶圆的干式清洗应采用哪种设备？ 真空等离子刻蚀机你值得拥有。等离子刻蚀机清洗晶圆的流程是：首要将晶圆放进等设备的真空反應腔内，亲水性亲水性然后抽真空，在达到一定真空度后通入反應气体，这些反應气体被电离形成等离子体与晶片表面进行化学和物理反应，产生挥发物，将晶圆表面处理干净，使其保持亲水状态。导致这种
