所以对PHA进行必要的修饰是必要的。但是由于PHA分子中存在大量的惰性基团，云南低温等离子处理机哪里找缺乏必要的活性位点，且其分子量大，化学修饰困难。对P3/4HB膜进行等离子体改性前，其静电接触角为122°，在高疏水性条件下，用氧等离子体处理后，静电接触角显著降低，达到78°，具有
