135-3805-8187
二氧化硅蚀刻设备(二氧化硅等离子体表面清洗器)

二氧化硅蚀刻设备(二氧化硅等离子体表面清洗器)

冲头油等被二氧化碳和水迅速氧化,二氧化硅蚀刻设备用真空泵抽出,对表面进行清洁,达到提高渗透性和附着力的目的。冷等离子处理只涉及材料的表层,不影响材料的整体性能。由于等离子清洗是在高真空下进行的,因此PLASAM中的各种活性离子具有非常长的自由度,具有很高的渗透性和渗透性,可以处理细管、盲孔等复杂结构