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二氧化硅干法刻蚀(二氧化硅等离子体表面清洗机器)

二氧化硅干法刻蚀(二氧化硅等离子体表面清洗机器)

可以看出,二氧化硅干法刻蚀去除(去除)等离子体造成的油污的过程,是有机(有机)聚合物逐渐分解形成水、二氧化碳等小分子,并以气体的形式去除的过程。等离子清洗的另一个特点是清洗完成后物体完全干燥。等离子处理过的物体表面通常会“激活”物体表面并形成许多新的活性基团,从而改变其特性。这大大提高了物体表面的润