等离子体中的高能反应基团与表面碰撞，亚克力uv打印附着力差引起溅射、热蒸发或光解。等离子专用清洗工艺主要是基于等离子溅射和蚀刻所带来的物理和化学变化。在物理溅射过程中，等离子体中高能离子的脉冲表面撞击会导致表面原子的位移，在某些情况下，会导致表面下原子的位移，因此物理溅射不是选择性的。在化学蚀刻过程
