刻蚀二氧化硅薄膜时，SiO2亲水性处理氧等离子体表面处理仪器也可以工作，这是等离子体表面处理设备中典型反应器的工作过程。输入气体为四氟化碳和氧气的混合物，等离子体由射频或电场激发。电子碰撞电离过程中会产生各种离子，如CF3+、CF2+、O2+、O-和F-.电子碰撞分解过程中会产生自由基，如CF3、C
