等离子刻蚀 在等离子刻蚀过程中，PTFE等离子蚀刻机被刻蚀材料在处理气体的作用下变成气相（例如，用氟气刻蚀硅时，如下图所示）。工艺气体和基体材料由真空泵抽出，表面不断被新工艺气体覆盖。蚀刻部分不希望被材料覆盖（例如，半导体工业使用铬作为涂层材料）。等离子方法也用于蚀刻塑料表面，使填充的混合物与氧气一
