暴露在紫外光下的区域迅速凝结成固体光刻胶，CCP等离子刻蚀经过曝光、显影和蚀刻，形成每个层结构所需的图案。在处理后一层时，需要在前一次涂敷后将光刻胶完全去除。从预定义图形中去除不需要的区域、保留剩余区域以及将图形转移到选定图形的过程需要等离子处理。等离子处理具有以下优点：获得满意的轮廓，钻孔小，表面
