射频等离子体可通过设置工艺参数控制强度和密度，高附着力塑粉英文来适应各种被清洗金属物体的不同要求。但低气压射频等离子体清洗需在放电腔中完成，对被清洗的金属物体尺寸有所限制，而且装置中仍需要真空设备，操作繁琐并且成本很高。约束等离子体清洗源通过几何约束或磁约束来提高等离子体密度，从而可以增强辉光等离子
