化学活性成分与基材的固体表面发生反应，首饰plasma刻蚀机器产生挥发性物质，由真空泵抽出。通常有四种材料需要蚀刻。硅（其他或非其他）、电介质（例如 SIO2 和 SIN）、金属（通常是铝、铜）和光刻胶。每种材料的化学性质不同。等离子刻蚀是一种各向异性刻蚀工艺，它保证了刻蚀图案的准确性（精密度）、特
