ICP蚀刻技术广泛应用于碳化硅的蚀刻应用:反应烧结碳化硅(RB-sic)作为一种新型陶瓷材料，弱亲水性的特点具有强度高、比刚度大、导热系数大、膨胀系数小的特点。随着光学技术的快速发展，光学系统向大孔径、低损耗、轻量化方向发展，对高分辨率、宽视场和高质量表面形貌的光学元件提出了更高的要求。。在等离子体
