，附着力最强的釉料这已成为硬盘空间的发展瓶颈，成为业界公认的问题。目前，化学清洗方法主要用于（减少）HCs 和相关阴离子的数量，收率低且效果不理想。经过六个月的工艺研究和与客户的密切合作，等离子清洗机将改进清洗配方，改变反应腔的结构材料，提高腔内的清洗均匀性。该技术在全球硬盘支架市场占有率第一的生产
