由于低温等离子体处理设备是干式试验清洗工艺，uv墨附着力提高处理后的材料可以立即进入下一道工序，等离子体清洗工艺稳定、（效率）高。由于等离子体的高能量，可以分解材料表面的化学物质或有机污染物，有效去除附着的所有杂质，使材料表面满足下一步涂层工艺的要求。本发明采用低温等离子体处理设备技术对表面进行清洗
