plasma等离子处理系统设备特点：A、13.56MHz射频电源与自动匹配系统，真空式等离子处理系统具有优异的稳定性与可重复性；B、灵活的电极结构设置与优化的气体馈入、分布方案，确保大批量处理的均匀性；C、精准（安）全的反应源供应系统，可满足多种工艺需求；D、PLC与工控机可提供稳定的过程控制，显示
