其机理主要依靠等离子体中活性粒子的“活化”来达到去除物体表面污渍的目的，附着力大于3mpa这些污渍通常包括无机气体激发为等离子体状态，气相物质吸附在固体表面，被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子，产物分子分解形成气相，反应残渣从固体表面排出等。等离子体清洗的最大特点是，无论被处理对象的衬底类型是
