置于腔室中的基板表面一般具有羟基或氢端反应活性位点，铝合金氧化斑点处理基板表面铜前驱体的饱和化学吸附量如下。活动站点的内容和密度密切相关。随着沉积循环次数的增加，基板表面的粗糙度缓慢增加，在实验开始时基板表面出现沉积，表明在初始生长阶段没有生长延迟，但在 10 内沉积是连续的循环，没有得到铜膜。一般
