等离子体技术自20世纪60年代以来已应用于化学合成、薄膜制备、表面处理和精细化工等领域。近年来，铁氟龙等离子体刻蚀等离子体聚合、等离子体刻蚀、等离子体灰化和等离子体阳极氧化等技术在大规模或超大规模集成电路的干低温工艺中得到了发展和应用。等离子体清洗技术也是干法工艺的进步成果之一。试想，铁氟龙等离子体
