晶圆等离子体清洗剂等离子体清洗剂是一种可行的替代介质图案化的方法，连云港等离子体清洗机厂商可以避免传统的湿法处理。使用WLP孔洞清洗，在堆叠的芯片上形成晶圆，通过形成过程往往会产生残留产物。通过等离子体过优化结构，可以在不损伤晶片表面的情况下对通孔进行处理。等离子清洗压痕可以提高压痕附着力和压痕剪切
