实验结果表明，电容型刻蚀机即ccp利用电容耦合产生等离子体,这种等离子密度较低,但能量较高,适合用直流等离子体、微波等离子体仪型等离子体装置和射频等离子体对目标表面有机物进行3种不同的清洗效果，分别清洗铜引线盒、芯片，对照清洁效果。各等离子设备的清洗参数不同，显示了优化参数。一种由96%氩-4%氢组
