等离子蚀刻对PID的影响：等离子诱导损伤（PID）是指集成电路制造中MOSFET器件上的各种等离子工艺损坏导致的器件性能偏差。在等离子环境中，对pet膜有特殊的附着力放电产生大量离子和电子，这些离子和电子在电极电位和等离子的自偏压作用下加速，向晶片表面移动，物理冲击基板，推动表面。化学反应。这些离子
（一）控制系统：控制系统：触摸屏+PLC（二）励磁电源系统：电源：13.56MHz射频励磁电源，plasma表面清扫(C)真空室：铝合金室，(D)工艺气体系统：工艺气体：氩氢混合物(E)真空泵：油泵主要采用两级旋片式油泵在设计卧式等离子清洗机时，应充分考虑被处理物品的形状和尺寸、放置方式和容量要求、
低温电晕清洗设备的充放电也必须在稳定的真空下开启。小试真空电晕真空泵控制方法大多数真空电晕使用真空泵来排干泵和汽油泵的腔室。一些使用单独的泵，电晕处理设而另一些使用泵组。中小型试验真空低温电晕使用单独的泵。实际操作控制面板由按键、状态指示器、带显示灯的无源蜂鸣器、输出功率控制器、数据显示信息真空计、
1.在使用等离子清洗机时，粉末等离子清洗机生产商也有一些限制因素主要出现在以下九点： 1）用等离子清洗机无法去除物体表面的切削粉末，对于清洗（效果）金属表面的油脂尤为重要。 2）油脂的去除（效果）非常好（效果），但是去除（去除）效果（效果）经过实践证明，即使有少量油脂附着在物体表面也很干净.我是。T
为杜绝真空电晕处理产品的二次污染，电晕机一直报警应规范此操作：真空电晕在使用过程中，产品受到油的污染。病因是什么？事实上，产品在处理过程中的二次污染很可能是以下不规范操作造成的。也就是说，电晕清洗设备发生报警后，由于设备操作不当，真空泵产生的部分油气被吸回真空室。你在操作过程中犯过这样的错误吗？我们
另一类温度较低的弱电离等离子体，驱动力大于附着力又被称为低温等离子体，包括从照明到半导体工艺等各种工业应用等离子体。低温等离子体可通过气体放电来产生，放电电源的频率可以从直流（Direct Current, DC）到微波波段（GHz）。放电气压可以在小于1Pa到数倍大气压（105Pa）之间。表 等离
Z*值为负表示金属离子向正极移动； Z*值为正表示金属离子向负极移动。Z*的值越小，福建真空等离子清洗机哪里有卖则抗电迁移的能力越强。表中Al和Cu的Z*值为负，Al离子和Cu离子都向正极移动，而Cu的Z*值只有Al的1/6，说明Cu的抗电迁移能力远大于Al。各种材料可以通过表面涂层制成疏水（hyd
由于它是在室温下，涂层附着力仪器因此不会损坏产品。这可以说是我们的客户在选择等离子设备时最可靠的产品。。等离子清洗机分为国产和进口两种，主要根据客户要求选配。等离子清洗机广泛应用于等离子清洗、蚀刻、等离子电镀、等离子涂层、等离子灰化和表面改性。该处理可以提高材料的润湿性，进行各种材料的涂镀、电镀等操
等离子清洗机无需箱体，聚苯乙烯泡沫板油漆附着力可直接安装在生产线上进行在线加工，与磨边机反向运行相比，大大提高了运行功率。等离子清洗机电源：主电源频率有40KHz、13.56MHz、2.45GHz三种，其中13.56MHz需要电源匹配器。 2.45GHz也称为微波等离子体。系统控制单元：可分为按钮控
另外，涂层附着力 检定由于TiC颗粒的密度比Fe- Cr熔液小在熔池的搅拌作用下容易上浮并聚集，因此靠近，涂层表面区域的TiC颗粒较多;而在涂层的底部区域TiC颗粒较少。等离子表面处理机等离子体处理过程中的快速加热和快速冷却导致涂层中存在较大的热应力，从而导致涂层开裂。Fe-Cr-C-Ti涂层表面有