重聚合物气体主要有CH2F2和CH3F，高达金属蚀刻片怎么装通过一定量的O2气体控制，达到蚀刻氮化硅和在硅化物上停止的目的。等离子体设备CH2F2/CH3F气体刻蚀时，在氮化硅表面形成的聚合物厚度远小于在氧化硅或金属硅化物上形成的聚合物厚度，因此等离子体设备刻蚀反应可以在氮化硅表面继续进行，而在金属
